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| 기술명 | 식각공정을 활용한 블랙 반도체의 형성 방법 |
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| 기술분야 | 전기/전자 |
| 기술개요 | 본 발명은 실리콘 카바이드 표면에 인위적으로 표면거칠기를 유발할 수 있는 새로운 방법을 제시한다. 본 발명에 의하면, 표면에 특정한 패턴을 형성하기 위한 별도의 공정이 전혀 필요하지 않으며, 실리콘 카바이드 상부에 플 라즈마 건식식각에 의하여 자연적으로 표면거칠기가 유발되는 물질(예를 들어 실리콘)을 적층하거나, 또는 각종 금속 성분이나 산화물, 질화물 등의 재질을 갖는 나노분말(nano powder)을 실리콘 카바이드 표면에 뿌린 후 플라 즈마 건식식각 공정을 거쳐서 반사도가 0에 가까운 블랙 실리콘 카바이드를 손쉽게 얻을 수 있다. 상기 블랙 실 리콘 카바이드는 광소자, 생체소자, 각종 화학센서 등에 응용될 수 있다. |
| 기술개발상태 | 기술개발완료 |
| 기술개발국가 | 국내 |
| 희망거래유형 | 기술매매 |
| 기술이전조건 | 협의 |
| 기술판매자정보 | 특허법인 부경 |
| 주소 | 부산광역시 연제구 법원남로15번길 12, 6층(거제동,대한타워빌딩) |
| 연락처 | 전화번호 : 051-503-6633 / E-Mail : pat@pnkpat.com |
| 기술원본 |
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