| 기술개요 |
본 발명에 따른 이중 가스 주입장치를 갖는 고온 화학 기상 증착 장치는, 반응실을 이루는 석영관; 그 내부에 박막성장을
위한 기판이 설치되며, 박막 성장을 위한 열을 발생하는 발열체; 발열체를 지지하는 한편 수소 및 원료가스의 발열체쪽으
로의 유동 통로를 제공하는 지지대; 석영관의 몸체 외주에 권취되며, 발열체를 가열하기 위한 고주파 유도 가열용 코일; 석
영관의 상부에 결합되며, 수소와 원료가스의 유출구가 마련되어 있는 반응실 상부 플랜지; 석영관의 하부에 결합되며, 수
소 및 원료가스의 주입구가 마련되어 있는 반응실 하부 플랜지를 구비하는 고온 화학 기상 증착 장치에 있어서,
상기 반응실 하부 플랜지에는 박막 성장을 위한 원료가스와 상기 발열체 내부측의 압력 유지를 위한 수소의 주입을 위한
수소 및 원료가스 주입구와, 상기 수소에 의한 발열체 내부측의 압력에 상응하는 발열체 외부측의 압력 유지와 발열체 외
부의 열화 방지 및 발열체로부터 석영관으로의 열전달을 억제하는 불활성 가스의 주입을 위한 불활성 가스 주입구가 각각
별도로 마련되고, 상기 지지대는 수소 및 원료가스를 상기 발열체쪽으로 유동하도록 하는 통로를 제공하되, 상기 수소 및
원료가스 주입구를 통해 주입된 수소와 원료가스가 오직 발열체의 내부측으로만 유동될 수 있도록 그 측면벽이 밀폐된 원
형관 형태로 구성된다. |
